基本信息
- 项目名称:
- 有机薄膜表面Al2O3纳米无机层的制备与研究
- 来源:
- 第十二届“挑战杯”省赛作品
- 小类:
- 能源化工
- 大类:
- 科技发明制作A类
- 简介:
- 本作品采用等离子体辅助原子层沉积技术(PA-ALD)在聚酯(PET)表面制备Al2O3纳米无机涂层,并对其沉积机理及沉积薄膜阻隔性能进行相关研究。
- 详细介绍:
- 本作品是利用等离子体辅助原子层沉积技术(PA-ALD)在预处理的PET表面进行制备Al2O3纳米无机涂层,并对制备出的样品进行阻隔性测量与研究。 沉积之前采用不同的方式对PET表面进行预处理,并通过原子力显微镜(AFM)研究预处理的结果,根据AFM的测量结果进一步优化处理方式。制备过程主要利用等离子体辅助原子层沉积技术(PA-ALD)进行原子层沉积,同现在的热原子层沉...(查看更多)
作品专业信息
设计、发明的目的和基本思路、创新点、技术关键和主要技术指标
- 作品设计:采用等离子体辅助原子层沉积技术(PA-ALD)在聚酯(PET)表面制备Al2O3纳米无机涂层,并对其沉积机理及沉积薄膜阻隔性能进行相关研究。鉴于学校实验设备及相关检测手段也已经具备,可以完成相关实验及其检测。 发明目的:通过等离子体辅助原子层沉积技术(PA-ALD)制备Al2O3纳米无机涂层,通过研究其制备过程,加深对等离子体辅助原子层沉积技术的认识,为以后进...(查看更多)
科学性、先进性
- 本作品在制备过程主要利用PA-ALD进行原子层沉积,同热原子层沉积技术(T-ALD)相比,PA-ALD可以在较低的温度下实现有机薄膜表面进行原子层沉积,且可获得较高的薄膜沉积速率和较短的冲洗时间,同时沉积的薄膜厚度可精确控制、表面均匀性好。通过不同实验参数的设置成功制备出了聚酯(PET)表面Al2O3纳米无机涂层,通过测量沉积薄膜的阻隔性得到了一定的提高。实验主要参考学校等离子实验室的资料。
获奖情况及鉴定结果
- 2011年4月8日参加北京印刷学院大学生科研计划(评为校级重点项目)
作品所处阶段
- 已经完成
技术转让方式
- 无
作品可展示的形式
- 结题报告配以相关图片
使用说明,技术特点和优势,适应范围,推广前景的技术性说明,市场分析,经济效益预测
- 制备过程采用等离子体辅助原子层沉积技术(PA-ALD),同现在的热原子层沉积技术(T-ALD)相比,采用等离子体辅助原子层沉积技术(PA-ALD)可以在较低的温度下实现在有机薄膜表面进行原子层沉积,且可获得较高的薄膜沉积速率和较短的冲洗时间,同时沉积的薄膜厚度可精确控制、表面均匀性好,并实现椭偏仪在线测试沉积薄膜的厚度等性能。 通过等离子体辅助原子层沉积技术制备出Al2O3薄膜并...(查看更多)
同类课题研究水平概述
- 当前在等离子体辅助原子层沉积的研究已经较为广泛,它具有沉积的薄膜厚度可精确控制、表面均匀性好、保形性优等特点。目前越来越多的应用于半导体元器件的制造等领域。但是本实验想通过将此技术与包装印刷方面结合起来,特别在一些精密仪器包装的高阻隔性能方面,通过等离子体辅助原子层沉积技术(PA-ALD)实现薄膜的纳米无机层的沉积实现高阻隔性包装薄膜的制备,有关这方面的研究测试还是比较有限的。鉴...(查看更多)